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日本shibaura半導體多離子計GMi 系列 本產(chǎn)品為換能器式多離子計，可連接不同測量范圍的探頭?？蓪崿F(xiàn)寬帶測量，顯著降低運行成本，并減少對環(huán)境的影響。 GMi系列特點 1.廣域測量可測量 2.可以連接具有不同測量范圍的測頭。使用多離子計可以讓您根據(jù)應用選擇測頭。 3.準確的氣壓測量 可以輕松準確地確認氣壓（使用GAM時）
更新時間：2024-09-02
日本shibaura 半導體皮拉尼壓力計GP-1 傳感器單元 GP-1 是皮拉尼真空計，可測量 3,000Pa 至 0.4Pa。該真空計去除了傳統(tǒng)控制器的操作和顯示部件，并將功能減少到最的低限度，從而可以降低成本并節(jié)省空間。
更新時間：2024-09-02
日本yako-sangyo 半導體高純氣體壓力表 HPG1 / HPG2 高純氣體壓力表 HPG1系列（EP級） HPG2系列（BA的級） 專為半導體、電子、醫(yī)療、生物技術(shù)和制藥行業(yè)使用的高純度氣體系統(tǒng)而設計。 產(chǎn)品規(guī)格 尺寸（外殼外徑）35mm、50mm、63mm 形狀：立式（低安裝）、中心后安裝、嵌入式
更新時間：2024-08-30
日本shibaura 皮拉尼真空計PG 系列 PG系列特點 1.不易發(fā)生故障的固定溫度型 2.大型數(shù)字顯示屏，可視性良好 3.機身較小，節(jié)省空間
更新時間：2024-09-02
美國Laurell ø200mm旋涂機WS-650-8B Laurell WS- 650-8 B 旋涂機 結(jié)構(gòu)緊湊，功能先進。 這款 650 系列涂布機系統(tǒng)可容納直徑達ø 200 毫米的晶圓和 7 英寸 × 7 英寸 (178 毫米 × 178 毫米) 的基板，最大轉(zhuǎn)速為12,000 RPM（基于直徑ø 100 毫米的硅晶圓）。
更新時間：2024-09-02
日本add -120℃超低溫冷凍柜 YFZ-1423 模型：YFZ-1423 電氣規(guī)格-電源電壓：三相AC200V 50/60Hz額定值：峰值時約10.5A / -120℃穩(wěn)定時約8.5A功耗：穩(wěn)定時最大3.0kW / 2.7kW 性能規(guī)格：冷卻性能：-120℃至-130℃，制冷劑：特殊混合制冷劑（HFC），環(huán)境溫度：10℃至28℃
更新時間：2024-09-02
日本moritex LED照明MCEC-CR8 ? 追求與MML的兼容性并實現(xiàn)高度的一致性。 ? 比MCEL-C*8 更高的照度（參見Pi-61 照度比較數(shù)據(jù)） ? 緊湊 ? 價格低廉 ? 使用MLEK 電源（參見Pi-62~）?？膳c多通道電源以及環(huán)形照明和背光一起使用
更新時間：2024-10-08
日本kohzu 自動旋轉(zhuǎn)臺 RA04A-W01 機械規(guī)格 模型：RA04A-W01 型號：RA04A-W01-R 指導方法：角軸承 旋轉(zhuǎn)范圍：±177° 分辨率 微步（1/20 格）：0.0002° 最大速度：20°/秒 累計誤差：。≦0.02°/360° (平均0.0071°/360°) 偏轉(zhuǎn)：≦20μm/360° (平均6.96μm/360°)
更新時間：2024-09-02
日本rikenkeiki 便攜式組合X射線分析儀 DF-01 1.XRD、XRF，同一點兩種分析?？梢栽谕稽c進行 X 射線衍射 (XRD) 和 X 射線熒光 (XRF) 兩種類型的分析。換句話說，可以從使用兩種不同測量方法獲得的數(shù)據(jù)中獲得高度準確的信息。 2.非破壞性、非接觸式便攜式分析設備。利用無損、非接觸的分析方法，我們可以分析那些限制移動或出口的文物和文化資產(chǎn)……即使是所謂的“禁止
更新時間：2024-08-30
日本 jfe膜厚分布測量裝置FDC-H1510 特征 1.能夠測量6英寸晶圓的整個表面 2.能夠以高分辨率（約5μm）測量整個樣品表面和局部厚度 3.緊湊的設計，可安裝在桌面上 4.基于高分辨率的局部測量 由于可以6um的高分辨率測量約3mm角，因此適用于需要局部測量的器件圖案上等膜厚分布測量。 5.最大6英寸的全面測量
更新時間：2024-08-29
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