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產(chǎn)品分類產(chǎn)品中心/ products
日本asahikogakuki數(shù)碼顯微鏡MS-300 焦點合成、2D/3D測量、光暈去除/HDR、自動形狀測量/粒子計數(shù)等、2D/3D圖像與XY/Z電動載物臺聯(lián)動、拍攝條件的保存/加載、超多照明（單側(cè)照明） 、1/4 分割照明、混合照明等）和其他行業(yè)的高級功能。
更新時間：2024-07-12
日本konicaminolta色彩照度計CL-200A 產(chǎn)品概述日本NIPPON DENSHOKU 光澤度計 反射率儀表 主要用于測量LED、OLED等各類照明、投影儀等的色度、相關色溫、照度、主波長、刺激純度等。 這是一款小型、輕量的手持式測量儀器，符合 JIS AA 級標準。
更新時間：2025-02-21
日本otsukael光譜分布測量系統(tǒng) GP系列 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。 實現(xiàn)高測量再現(xiàn)性 可實時高速監(jiān)控拋光 實現(xiàn)了長 WD（工作距離）并且易于集成到設備中 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制 可以進行多層厚度測量 可測量臨時晶圓（臨時鍵合晶圓）各層厚度
更新時間：2024-07-12
日本otsukael光譜干涉式晶圓測厚儀SF-3 通過光學方法可以進行非接觸式和非破壞性的厚度測量。 實現(xiàn)高測量再現(xiàn)性 可實時高速監(jiān)控拋光 實現(xiàn)了長 WD（工作距離）并且易于集成到設備中 從主機設備使用 LAN 通過 TCP/IP 通信進行控制 可以進行多層厚度測量 可測量臨時晶圓（臨時鍵合晶圓）各層厚度
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 顯微分光膜厚儀OPTM系列 OPTM 是一種通過使用顯微鏡光譜測量微小區(qū)域的絕對反射率來實現(xiàn)高精度薄膜厚度和光學常數(shù)分析的設備。 各種薄膜、晶圓、光學材料等鍍膜、多層膜厚度的無損、非接觸測量?？梢赃M行1秒/點的高速測量。此外，它配備了軟件，即使是初次使用的用戶也可以輕松分析光學常數(shù)。
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 高靈敏度光譜輻射儀 HS-1000 能夠測量從0.005cd/m2的超低亮度到400,000cd/ m2的高亮度 支持 CIE 推薦的寬波長范圍（355nm 至 835nm） 專有光學系統(tǒng)減少了偏光誤差 (1%)， 可以
更新時間：2024-07-12
日本otsukael多通道光譜儀 MCPD-9800/6800 這是一款涵蓋紫外到近紅外區(qū)域的多功能多通道光譜檢測器。光譜測量可在短至 5 毫秒內(nèi)完成。標準設備的光纖可用于各種測量系統(tǒng)，無需樣品類型。除了顯微光譜、光源發(fā)射和透射/反射測量外，它還可以與軟件結(jié)合使用，用于物體顏色評估和薄膜厚度測量。能夠從低亮度到高亮度進行高速、高精度測量的光譜輻射亮度計。
更新時間：2024-07-12
日本otsukael Zeta 電位/粒徑測量系統(tǒng) ELSZneoSE 可根據(jù)應用增加功能（分子量測量、顆粒濃度測量、微流變學測量、凝膠網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)分析、粒徑多角度測量）。 使用標準流通池連續(xù)測量粒徑和 zeta 電位 可在從稀溶液到濃溶液（高達 40%）的寬濃度范圍內(nèi)測量粒徑和 zeta 電位
更新時間：2024-07-12
日本otsukael 電位/粒徑/分子量測量系統(tǒng)ELSZneo ELSZ 系列中的最高型號，除了可以測量稀溶液到濃溶液中的 zeta 電位和粒徑外，還可以測量分子重量。作為一項新功能，多角度測量已被采用，以提高粒度分布的分辨率。它還可以進行顆粒濃度測量、微流變學測量和凝膠網(wǎng)絡結(jié)構(gòu)分析。 新型zeta電位平板電池單元具有新開發(fā)的高鹽涂層，可以在鹽水等高鹽環(huán)境下進行測量。我們還有一系列超微量細胞單元，
更新時間：2024-07-12
日本napson晶圓平面度測量系統(tǒng)FLA-200 支持厚度測量、PN判斷、溫度測量（硅晶圓） 自檢功能，測量范圍廣 厚度/周邊位置/溫度校正功能（電阻率（resistivity）測量） 可根據(jù)要求容納任意數(shù)量的包埋盒。 *可選：通訊軟件，兼容SMIF或FOUP
更新時間：2024-07-12
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